CDM方法学编号 | AM0096 |
版本 | V01 |
方法学专业领域划分 | 4.制造业 11.碳卤化合物和六氧化硫的生产和消费产生的飞逸性排放 |
典型项目 | 现有半导体生产设施安装催化氧化设备(减排系统)以减少CF4 气体排放的项目。 |
主要适用条件 | 1、在2010 年1月31日前有至少三年采购CF4、以及半导体衬底库存和产量的信息 的现有生产线,且未安装减排设备、CF4直排到空气中; 2、没有法律强制要求分解、减排、回收或替换 CF4,或包含CF4的排放气体中的 任何组成部分; 3、不适用于减少化学气相沉淀(CVD)工艺PFC 排放的项目; 4、不允许使用除CF4以外的刻蚀气。 |
基准线情景 | |
项目情景 | |
主要监测参数 | 1、项目中CF4消耗量; 2、项目中半导体衬底产量; 3、不同监测区间添加到导管的氦气校准流速及校准后浓度; 4、不同监测区间进、出减排系统氦气浓度(无需注入校准氦气); 5、不同监测区间进、出系统的CF4浓度; 6、不同区间的MFC温度; 7、化石燃料、电力消耗产生的项目排放。 |
方法学原文链接 | http://cdm.ccchina.gov.cn/archiver/cdmcn/UpFile/Files/Default/20140123142258145923.pdf |
返回
本CCER方法学工具简表参考CDM方法学手册。 |